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American Psychological Association 6th edition

Keller, L., & Huth, M. (o. J.). Pattern generation for direct-write three-dimensional nanoscale structures via focused electron beam induced deposition [Electronic]. Beilstein journal of nanotechnology, (Band 9 (2018), Seite 2581-2598), , Seite 2581-2598. https://doi.org/10.3762/bjnano.9.240

ISO-690 (author-date, English)

KELLER, Lukas und HUTH, Michael, [no date]. Pattern generation for direct-write three-dimensional nanoscale structures via focused electron beam induced deposition. Beilstein journal of nanotechnology. No. Band 9 (2018), Seite 2581-2598, p. , Seite 2581-2598. DOI 10.3762/bjnano.9.240.

Modern Language Association 9th edition

Keller, L., und M. Huth. „Pattern generation for direct-write three-dimensional nanoscale structures via focused electron beam induced deposition“. Beilstein journal of nanotechnology, electronic, Nr. Band 9 (2018), Seite 2581-2598, Universitätsbibliothek Johann Christian Senckenberg Frankfurt, M. : Beilstein-Institut zur Förderung der Chemischen Wissenschaften, 2010-, S. , Seite 2581-2598, https://doi.org/10.3762/bjnano.9.240.

Mohr Siebeck - Recht (Deutsch - Österreich)

Keller, Lukas/Huth, Michael: Pattern generation for direct-write three-dimensional nanoscale structures via focused electron beam induced deposition, Beilstein journal of nanotechnology , Seite 2581-2598.

Emerald - Harvard

Keller, L. und Huth, M. (o. J.). „Pattern generation for direct-write three-dimensional nanoscale structures via focused electron beam induced deposition“, Beilstein journal of nanotechnology, Universitätsbibliothek Johann Christian Senckenberg Frankfurt, M. : Beilstein-Institut zur Förderung der Chemischen Wissenschaften, 2010-, Frankfurt am Main, No. Band 9 (2018), Seite 2581-2598, S. , Seite 2581-2598.

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